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三星電子首創(chuàng)45nm嵌入式閃存工藝 用于智能卡芯片

作者:不詳
來(lái)源:電子工程專輯
日期:2013-06-04 10:07:47
摘要:三星電子成功開發(fā)業(yè)界首款45nm嵌入式閃存(Embedded Flash或eFlash, 內(nèi)置型閃存)工藝以及采用此工藝的智能卡芯片。嵌入式閃存工藝是在控制和處理數(shù)據(jù)的系統(tǒng)半導(dǎo)體電路中,實(shí)現(xiàn)閃存電路的數(shù)據(jù)存儲(chǔ),可提高集成度和電力效率,適用于家電,移動(dòng)設(shè)備,汽車等多個(gè)領(lǐng)域的產(chǎn)品應(yīng)用。
關(guān)鍵詞:三星電子芯片智能卡

  三星電子成功開發(fā)業(yè)界首款45nm嵌入式閃存(Embedded Flash或eFlash, 內(nèi)置型閃存)工藝以及采用此工藝的智能卡芯片。

  嵌入式閃存工藝是在控制和處理數(shù)據(jù)的系統(tǒng)半導(dǎo)體電路中,實(shí)現(xiàn)閃存電路的數(shù)據(jù)存儲(chǔ),可提高集成度和電力效率,適用于家電,移動(dòng)設(shè)備,汽車等多個(gè)領(lǐng)域的產(chǎn)品應(yīng)用。

  與現(xiàn)有的80nm工藝產(chǎn)品相比,此次成功開發(fā)的45nm智能卡IC具有更高的效率,耗電量減少25%,且隨機(jī)讀取時(shí)間(Random Access Time)縮短50%。

  值得一提的是,閃存的每個(gè)存儲(chǔ)單元(Cell)最少可進(jìn)行100萬(wàn)次擦寫循環(huán)(Endurance cycle),確保其業(yè)內(nèi)最高可靠性,目前商用化內(nèi)部測(cè)試已完成。

  在完成設(shè)計(jì)工藝的優(yōu)化和權(quán)威機(jī)構(gòu)的保密性測(cè)試后,三星電子預(yù)計(jì)明年下半年量產(chǎn)基于45nm嵌入式閃存工藝的智能卡芯片。

  三星電子還計(jì)劃利用此次開發(fā)的45nm嵌入式閃存工藝技術(shù),向家電和車用MCU(Micro Controller Unit)產(chǎn)品領(lǐng)域的制造廠/ASIC(Application Specific Integrated Circuit)客戶提供具有競(jìng)爭(zhēng)力的解決方案。

  三星電子系統(tǒng)LSI事業(yè)部金泰勛常務(wù)表示:“期待此次開發(fā)的45nm嵌入式閃存工藝可用于智能卡,NFC(Near Field Communication)等多種安全解決方案和移動(dòng)產(chǎn)品上?!彼€指出,“今后我們將在多種產(chǎn)品領(lǐng)域率先應(yīng)用高端工藝,鞏固自身綜合移動(dòng)解決方案供應(yīng)商的地位?!?/P>

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