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突破!國產(chǎn)光刻膠又一重磅利好 配方全自主設(shè)計(jì)

作者:來源網(wǎng)絡(luò)(侵權(quán)刪)
來源:RFID世界網(wǎng)
日期:2024-10-17 10:32:10
摘要:據(jù)東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū)官網(wǎng)今日(10月15日)消息,近日武漢太紫微光電科技有限公司(下稱“太紫微公司”)推出的T150 A-光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)。
關(guān)鍵詞:光刻膠

光刻膠產(chǎn)業(yè)化再度傳出利好。


據(jù)東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū)官網(wǎng)今日(10月15日)消息,近日武漢太紫微光電科技有限公司(下稱“太紫微公司”)推出的T150 A-光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)。

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該產(chǎn)品“對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列產(chǎn)品UV1610,T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,通過驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異”。

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有業(yè)內(nèi)人士稱,太紫微光稱其產(chǎn)品已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,并實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì),但最終成效還是要看市場與客戶的反饋。據(jù)介紹,光刻膠產(chǎn)品在客戶端驗(yàn)證周期通常需要2年。

太紫微公司團(tuán)隊(duì)來源



據(jù)悉,太紫微公司由華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團(tuán)隊(duì)創(chuàng)立。該團(tuán)隊(duì)立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā),在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載。武漢光電國家研究中心是科技部于2017年批準(zhǔn)建設(shè)的第一批,也是唯一的一批6個(gè)國家研究中心之一,其前身為2003年獲批的武漢光電國家實(shí)驗(yàn)室(籌)。
值得注意的是,天眼查信息顯示,太紫微公司成立于2024年5月31日,注冊資本200萬元,實(shí)控人為朱明強(qiáng),最終受益股份77%。
除了朱明強(qiáng)本人外,太紫微公司的另外兩家股東,湖北高碳光電科技有限公司、武漢市馬斯洛普管理咨詢合伙企業(yè),朱明強(qiáng)則分別持股100%和8%。
據(jù)公開信息顯示,朱明強(qiáng)為華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心二級教授,光學(xué)與電子信息學(xué)院雙聘教授。主要研究領(lǐng)域?yàn)橛袡C(jī)及納米光電子學(xué),研究方向包括集中于光刻制造、有機(jī)納米光電子學(xué)和超分辨率成像。

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈有哪些?



光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈涵蓋了從上游原材料生產(chǎn)到下游應(yīng)用領(lǐng)域的多個(gè)環(huán)節(jié)。
上游環(huán)節(jié)主要依托基礎(chǔ)化工原料,生產(chǎn)樹脂、光引發(fā)劑、溶劑、單體等電子化學(xué)品,這些原材料的質(zhì)量和性能對光刻膠的最終品質(zhì)有著直接影響。樹脂作為光刻膠的主要成膜物質(zhì),對光刻膠性能有重要影響,起到支撐作用,使其具有耐刻蝕性能;光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);單體則參與光固化反應(yīng),降低體系黏度,調(diào)節(jié)材料性能;溶劑則賦予光刻膠流動(dòng)性,便于涂布。
中游環(huán)節(jié)為光刻膠成品制造,包括PCB光刻膠、面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠等,制造商需具備性能評價(jià)、嚴(yán)格生產(chǎn)管理、潔凈生產(chǎn)、微量分析等關(guān)鍵技術(shù),以確保產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。
下游環(huán)節(jié)則涉及印刷電路板、顯示面板和電子芯片等應(yīng)用領(lǐng)域,這些產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、航空航天、軍工等領(lǐng)域。
整體而言,光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)壁壘、專利壁壘、資本壁壘較高,客戶粘性大,上游原材料供應(yīng)深度綁定。但近年來,隨著相關(guān)產(chǎn)業(yè)向東轉(zhuǎn)移,國內(nèi)光刻膠需求快速增長,相關(guān)企業(yè)也在積極突破,努力實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代。數(shù)據(jù)顯示,其中KrF、ArF光刻膠對外依賴最為嚴(yán)重,國產(chǎn)化率均僅在1%水平。
西部證券指出,我國半導(dǎo)體光刻膠市場超90%主要依賴進(jìn)口,本土廠商雖起步較晚,但目前處于國產(chǎn)化加速期。
據(jù)芯傳感了解,光刻膠技術(shù)核心在于配方,它決定了光刻膠的性能和應(yīng)用。同時(shí),質(zhì)量控制技術(shù)確保產(chǎn)品穩(wěn)定可靠。高純度、高穩(wěn)定性的原材料是基礎(chǔ),光活性物質(zhì)決定感光度與分辨率,感光樹脂影響硬度、柔韌性和附著力,而溶劑則使光刻膠便于涂布加工。
這些要點(diǎn)共同構(gòu)成了光刻膠技術(shù)的精髓,使其能夠滿足不同領(lǐng)域的高精度需求。


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