產(chǎn)品詳情:
等離子機(jī)價(jià)格供應(yīng)商:誠(chéng)峰智造
噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-DP1010-D
名稱(Name) 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
型號(hào)(Model) CRF-APO-DP1010-D
電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz
功率(Power) 1000W/25KHz
處理高度(Processing height) 5-15mm
處理寬幅(Processing width) 1-6mm(Option)
內(nèi)部控制模式(Internal control mode) 數(shù)字控制
外部控制模式(External control mode) RS485/RS232數(shù)字通訊口、
模擬量控制口 工作氣體(Gas)
Compressed Air (0.4mpa)
產(chǎn)品特點(diǎn):可選配多種類型噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
具有RS485/232數(shù)字通訊口和模擬量控制口,滿足客戶多元化需求。
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;
可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
應(yīng)用范圍:主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;國(guó)防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
氬氣plasma清洗工作原理:
plasma等離子清洗機(jī)會(huì)應(yīng)用到各種各樣加工工藝氣體,表層清理和活化一般會(huì)應(yīng)用到氧、氫、氮和空氣壓縮,然而依據(jù)加工工藝的不同也會(huì)應(yīng)用氬氣。那么為何要應(yīng)用氬氣這類氣體呢,及其它在plasma清洗機(jī)中的主要發(fā)揮的功效是什么。
氬是一種無(wú)色,無(wú)味的惰性氣體,工業(yè)上主要用在電弧焊接和金屬材料激光切割保護(hù)上,氬是一種惰性氣體,所以弱電解質(zhì)后造成的離子體與基材不產(chǎn)生化學(xué)變化。在plasma清洗中,氬用在基材表層的物理學(xué)清理和表層粗化。因而,氬等離子清洗機(jī)廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體材料、微電子技術(shù)、晶圓制造等制造行業(yè)。真空等離子清洗機(jī)中氬離子產(chǎn)生的輝光是暗紅色的。在同樣充放電自然環(huán)境下,氫氣、氮?dú)猱a(chǎn)生的等離子體均為鮮紅色,不過氬氣的色度小于氮?dú)?,高過氫氣。
在圓晶、夾層玻璃等產(chǎn)品的表層顆粒物除去灰塵全過程中,一般選用氬氣對(duì)表層顆粒物開展轟擊,以完成顆粒物的分散化和松脫,隨后再開展超聲清洗或離心清理的工藝。尤其是在半導(dǎo)體封裝全過程中,進(jìn)行導(dǎo)線加工工藝后避免被空氣氧化,也是選用氬氣清洗機(jī)或氬氫等離子表層清理。氬氫混合應(yīng)用不僅可以提升粗糙度外,還能有效除去焊層表層的有機(jī)化學(xué)空氣污染物,對(duì)表層微空氣氧化進(jìn)行還原,普遍應(yīng)用在半導(dǎo)體和工廠SMT等行業(yè)。